Thoughts and products (2021) 绘画 由 Gai Yu

盖宇，出生于1962年，是一位数字艺术家和摄影师，其作品体现了对视觉设计和艺术创造力的浓厚热情。他毕业于中国山东艺术设计学院，最初在平面设计领域出名，随后将视野拓展到油画、摄影和艺术数字领域。目前担任助理艺术设计专家，他不断在这些学科领域进行探索和创新。

他的职业生涯因参加众多著名的国际展览而中断。 2015年参加意大利米兰国际艺术展。 2008 年，他还出席了克罗地亚奥西耶克画廊和比利时克诺克海斯特国际摄影节。他参与的重大活动还不止于此：2009年，他受邀参加柏林国际影像展和印度国家设计源网。 2018年参加第十届CPNO中国国际摄影展。

盖宇还在最近的节日中产生了影响，例如 2021 年魏玛回归国际艺术节和 2022 年加尔各答国际艺术家论坛摄影巡回赛。他继续扩大自己的国际足迹，参与了诸如如美杜莎赛道、讷尔默达赛道和 2024 年尼泊尔摄影节。

盖宇通过他的作品寻求融合传统与创新，将经典的平面设计技术与数字艺术和摄影提供的新可能性相结合。他捕捉和诠释多种艺术形式视觉美​​的能力使他成为当代艺术世界的关键人物。

• 国籍: 中国
• 出生日期 : 未知日期
• 艺术领域：
• 团体： 中国当代艺术家