



Un sommeil bien mérité après le travail dur (2019) 印花与版画 由 Richard Raveen Chester
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原创艺术品
印花与版画,
雕刻
在纸上
- 外形尺寸 高度 6.7in, 宽度 6.3in
- 分类 版画 低于US$500 抽象主义
Il faut se reposer après avoir travaillé dur pendant la journée et quoi de mieux qu’un sommeil agréable et relaxant.
Estampe en édition limitée de 6 tirages
technique estampe nouveau media tirage à la main sur papier 300 gm
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Richard Raveen Chester 是一位多才多艺的艺术家。他使用数字技术开发了一种新的印刷形式,并在厚重的艺术纸上叠加图层。他擅长当代同步和连续彩色印刷。艺术家将marouflage转移后的印刷品重新加工到厚重的艺术纸上,以达到艺术效果。
他的创作灵感主要来自于他在乡间的漫步,以及他在行走中所感受到的感受,并试图与他的作品的观众分享这些感受。
理查德·拉文·切斯特 1954 年出生于印度。他于 1976 年毕业于德里大学艺术学院,获得视觉传达艺术学士学位。他目前在法国昂热生活和工作。